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        打磨碳化硅需要哪種拋光墊?

        文章出處:責任編輯:人氣:-發表時間:2023-08-17 16:41【

          打磨碳化硅需要哪種拋光墊?

          打磨碳化硅襯底分研磨和拋光4道工序:粗磨、精磨、粗拋、精拋。拋光墊的選擇根據CMP工藝制程的不同搭配不同的研磨墊:粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊

          吉致電子CMP拋光墊滿足低、中及高硬度材料拋光需求,具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性價比等優勢。結合硬質和軟質研磨拋光墊的優點,可兼顧工件的平坦度與均勻度碳化硅研磨選擇吉致復合無紡布拋光墊,提供更快磨合的全局平坦性,提升碳化硅晶圓制程的穩定性與尺寸精密度。碳化硅精拋墊.jpg

          壓紋和開槽工藝,讓PAD可保持拋光液/研磨液良好的流動性,不易沾粘,更易清洗特殊纖維材質,耐用、耐磨、耐酸堿,價比高??蔁o縫替代suba800/Suba400等系列。聯系吉致電子,產品工程師1V1服務,為您推薦碳化硅拋光墊型號及詳細搭配方案。

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