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吉致電子拋光材料 源頭廠(chǎng)家
25年 專(zhuān)注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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吉致電子--氧化硅拋光液/硅溶膠拋光液

產(chǎn)品分類(lèi): 拋光液
    吉致電子拋光液/研磨液/精拋液
    產(chǎn)品名稱(chēng):氧化硅拋光液/硅溶膠拋光液/氧化硅懸浮液/硅拋光液/二氧化硅拋光液
    磨料類(lèi)型:高純納米氧化硅微粒
    磨料粒徑:10-150nm(最高可達150nm)
    產(chǎn)品特點(diǎn):吉致氧化硅拋光液懸浮性佳,化學(xué)性能穩定,拋光工件效率高、工時(shí)短、無(wú)劃傷。
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      氧化硅拋光液·參數吉致電子,CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專(zhuān)利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

      產(chǎn)品名稱(chēng):氧化硅拋光液,硅溶膠拋光液,二氧化硅拋光液,精拋液,納米拋光液

      磨料類(lèi)型:高純納米氧化硅微粒

      磨料粒徑:10-150nm(最高可達150nm)

      吉致電子氧化硅拋光液懸浮性極佳,高固含量、分散性好,易搖散且不團聚,化學(xué)性能穩定。氧化硅精拋液拋光效率高,能有效縮短工時(shí),磨拋后工件呈現鏡面效果,無(wú)劃傷、高平坦。

      產(chǎn)品工藝及用途:通過(guò)離子交換法和水解法制備不同粒徑的穩定硅溶膠,經(jīng)鈍化添加化學(xué)助劑以及特殊工藝配制的二氧化硅拋光漿料。適用集成電路/半導體/特殊材料/金屬材質(zhì)/脆硬材料的鏡面拋光。

      氧化硅拋光液·晶體形態(tài)

      吉致電子氧化硅拋光液/氧化硅精拋液/硅溶膠拋光液

      可按客戶(hù)工藝要求調制硅溶膠拋光漿料

      氧化硅拋光液——二氧化硅微粒在拋光工件表面的損傷層極微,硬度和硅片的硬度相近,常用于半導體硅片的拋光。

      氧化硅精拋液——采用納米級的硅溶膠有效減小表面粗糙度和損傷層深度。

      二氧化硅(SiO2)是硅溶膠拋光液的重要組成部分,其粒徑大小、致密度、分散度等因素直接影響化學(xué)機械拋光的速率和拋光質(zhì)量。

      吉致拋光液 硅溶膠 氧化硅 精拋液

      <吉致電子>氧化硅拋光液特點(diǎn):

      1.分散性好、不結晶。

      2.粒徑分布廣泛:5-100nm。

      3.高純度(Cu2+含量小于50 ppb),有效減小對電子類(lèi)產(chǎn)品的沾污。

      4.經(jīng)特殊工藝合成的化學(xué)機械拋光液,納米顆粒呈球形,單分散,大小均勻,粒徑分布窄,可獲得高質(zhì)量的拋光精度。

      5.適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。

      6.PH、粒徑、穩定離子等可以根據客戶(hù)定制(10-150 nm)

      吉致拋光液 二氧化硅拋光液 硅溶膠拋光液

      拋光過(guò)程中具有:

      1.高拋光速率,利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目的。(可以生產(chǎn)150 nm)。

      2.高平坦度加工,吉致氧化硅精拋液是利用SiO2的膠體粒子,不會(huì )對加工件造成物理?yè)p傷,達到高平坦化加工。

      拋光過(guò)程后具有:

      1.精度可以達到納米

      2.劃傷和挖傷可以達到0/0

      氧化硅拋光液·產(chǎn)品參數

      吉致電子氧化硅拋光液/硅溶膠精拋液

       多種型號對應不同磨拋需求(查看更多型號請聯(lián)系我們)

      吉致電子CMP拋光材料--氧化硅拋光液產(chǎn)品規格
      型號/TypeJZ-S40NJZ-S60NJZ-S80NJZ-S100NJZ-S120NJZ-S150N
      磨料SiO2SiO2SiO2SiO2SiO2SiO2
      平均粒徑40nm60nm80nm100nm120nm150nm
      PH8-128-128-128-128-128-12
      定制/現貨除上述規格外,吉致電子拋光液可根據客戶(hù)不同工件磨拋要求調配定制

      拋光液物性表
      主要成分:外觀(guān):密度:pH值:
      SiO2白色液體1.15±0.059.8±0.5
      拋光溫度:稀釋率<1:拋光壓力:
      10~38℃1~10150~250g/cm&sup2

      吉致電子氧化硅拋光液使用方法:

      1.可根據拋光操作條件用去離子水進(jìn)行5-20倍稀釋。

      2.稀釋后,粗拋時(shí)調節PH11左右,精拋時(shí)調節PH9.5左右。pH調節可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分攪拌下慢慢加入。

      3.循環(huán)拋光可以用原液。

      吉致電子氧化硅拋光液儲存方法:

      1.貯存時(shí)應避免曝曬,貯存溫度為5-35℃

      2.低于0℃以上儲存,防止結冰,在無(wú)度以下因產(chǎn)生不可再分散結塊而失效。

      3.避免敞口長(cháng)期與空氣接觸。

      吉致電子氧化硅拋光液價(jià)格:

      吉致電子的氧化硅拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國外生產(chǎn)技術(shù)和設備,特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類(lèi)產(chǎn)品。

      本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

      吉致電子研發(fā)團隊--15年經(jīng)驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!

      吉致電子 拋光液研發(fā)團隊

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