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吉致電子拋光材料 源頭廠(chǎng)家
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氧化層拋光液 /Oxide slurry/CMP拋光液

產(chǎn)品分類(lèi): 拋光液
    產(chǎn)品名稱(chēng):氧化層拋光液/Oxide slurry/Oxide氧化物CMP研磨液
    磨料類(lèi)型:半導體cmp拋光液slurry
    磨料粒徑:納米級SiO2
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      Oxide氧化層拋光液·參數吉致電子,OXIDE SLURRY 可定制·速率高·效果好·專(zhuān)利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

      產(chǎn)品名稱(chēng):氧化層拋光液/Oxide氧化物CMP研磨液/Oxide slurry

      氧化層拋光液作用: 吉致電子OX氧化層拋光液適用于4-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO2水溶膠為磨料,拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少??蛻?hù)在使用過(guò)程中通過(guò)優(yōu)化稀釋比例,均能達到最佳拋光效果。

      納米級SiO2磨料,粒徑均一穩定,去除速率穩定,金屬離子含量低,通過(guò)CMP工藝可有效去除表面氧化層,達到理想平坦度。

      吉致電子Oxide Slurry與國內外同類(lèi)產(chǎn)品相比,具有易清洗、表面粗糙度低等特點(diǎn)。

      吉致電子slurryJZ-B3580A與競品D3xxx數據對比:

      JZ-B3580A基礎參數與D3xxx 相近,平均 粒徑低于D3xxx,總金屬離子含量與D3xxx 相近。

      JZ-B3580A表面粗度與D3xxx 在同一水平。

      吉致電子氧化層拋光液JZ-B3580&JZ-B3580A:

      JZ4500對OX拋光速率更快;

      JZ4000對Si的選擇比更高,RRox:RRsi=1:0.99,接近1:1

      吉致電子氧化層拋光液/OxideSlurry拋光液儲存方法:

      通風(fēng),陰涼,干燥的庫房,本品需在5-35℃儲存,防止陽(yáng)光直射及凍結,零度以下因產(chǎn)生不可再分散結塊而失效。

      吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價(jià)格:

      吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國外生產(chǎn)技術(shù)和設備,特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類(lèi)產(chǎn)品。

      本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

      吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

      吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設備,為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導光板、五金產(chǎn)品、藍寶石、光學(xué)玻璃等各類(lèi)拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案!

      吉致電子研發(fā)團隊--15年經(jīng)驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!

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