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        吉致電子氮化鋁陶瓷基片拋光

        文章出處:責任編輯:人氣:-發表時間:2023-12-08 16:41【

        氮化鋁陶瓷基板具有高導熱率、低介電常數、低熱膨脹系數、高機械強度、高耐腐蝕性等特點。其作為電路元件及互連線承載體,廣泛應用再軍事和空間技術通訊、計算機、儀器儀表、半導體電子設備、汽車等各個領域。氮化鋁陶瓷經過CMP拋光后可用于半導體激光器、固體繼電器、大功率集成電路及封裝等要求絕緣又高散熱的大功率器件上。

        吉致電子氮化鋁陶瓷拋光液可達鏡面效果,特點如下:

        1、納米級拋光液,拋光后具有較優的粗糙度

        2、陶瓷基片拋光液綠色無污染、不含鹵素及重金屬元素

        3、拋光液可循環使用,根據工藝要求可添加去離子水稀釋

        氮化鋁陶瓷基板通過CMP化學機械平面拋光工藝,結合吉致電子平面研磨機配合研磨液、拋光液、研磨盤就可以達到理想鏡面效果。

        本文由無錫吉致電子科技原創,版權歸無錫吉致電子科技,未經允許,不得轉載,轉載需附出處及原文鏈接。http://www.jeffvon.com/

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