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        金屬鉬片的CMP拋光工藝

        文章出處:責任編輯:人氣:-發表時間:2023-12-13 17:09【

          工廠的鉬片加工工藝采用粗磨、雙端面立磨等研磨工藝,粗磨的合格率僅在85%左右,整體平行度不良居多,造成產品合格率下降,也造成后續加工難度,這與金屬鉬的特性有關,目前鉬片采用CMP拋光工藝(拋光液+拋光墊)能達到鏡面效果。

          鉬的特點:鉬是一種難溶金屬,具有很多優良的物力化學和機械性能。由于原子間結合力極強,所以在常溫和高溫下強度均非常高。它的膨脹系數低,導電率大,導熱性好。在常溫下不與鹽酸、氫氟酸及堿溶液反應,僅溶于硝酸、王水或濃硫酸之中,對大多數液態金屬、非金屬熔渣和熔融玻璃亦相當穩定。

        吉致電子拋光液 鉬片拋光

         金屬鉬在冶金、農業、電器、化工、環保和宇航等領域應用廣泛,鉬必須以受控的方式通過拋光或磨光移除,以實現適合例如用于半導體器件制造的表面性質。

        吉致可提供鉬片/金屬鉬的鏡面拋光液:

        1、微米/納米級拋光液,拋光后具有均勻鏡面效果

        2、磨料顆粒呈懸浮狀態,不易分散沉淀,提高CMP效率和穩定性

        3、鉬片專用拋光液磨料硬度高、穩定性好、化學惰性強,

        通過CMP化學機械平面拋光工藝,結合吉致電子平面研磨機配合研磨液、拋光液、研磨盤就可以達到理想鏡面效果。

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