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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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拋光速率高具有良好的切削力,提高拋光效率
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拋光效果好分散性好、乳液均一,提高拋光精度
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安全環(huán)保不含任何硫、磷、氯添加劑,性能穩(wěn)定
對(duì)環(huán)境無污染
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適用范圍廣金屬、光電、半導(dǎo)體、硬盤、顯示器、
陶瓷
等行業(yè)

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拋光速率高切削力快,10分鐘拋光到位
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拋光效果好無桔皮、無麻點(diǎn)、無殘留刀痕
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使用壽命長(zhǎng)相當(dāng)于國(guó)產(chǎn)拋光墊壽命的1.5倍
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適用范圍廣廣泛適用于金屬、光電、半導(dǎo)體、硬盤、顯示器、
陶瓷等行業(yè)

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品牌企業(yè),拋光行業(yè)前行者Brand enterprise, polishing industry leader
  • 19年傾心專注化學(xué)機(jī)械拋光耗材領(lǐng)域,行業(yè)經(jīng)驗(yàn)豐富
  • 公司面積 26.000㎡,員工達(dá)275人,每月產(chǎn)能60.000㎡
  • 高品質(zhì)品牌,產(chǎn)品遍銷各國(guó),500強(qiáng)青睞品牌
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高品質(zhì),用質(zhì)量贏得肯定International quality, with quality win for sure
  • 引進(jìn)國(guó)外生產(chǎn)技術(shù),品質(zhì)媲美進(jìn)口產(chǎn)品,國(guó)內(nèi)價(jià)格高質(zhì)選擇
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  • 技術(shù)銷售團(tuán)隊(duì),解答采購(gòu)疑問
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行業(yè)應(yīng)用案例 / Industry Case

吉致電子--CMP不銹鋼表面快速拋光

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不銹鋼獲取高質(zhì)量的鏡面的傳統(tǒng)工藝主要采用的拋光技術(shù):電解拋光、化學(xué)拋光和機(jī)械拋光?!?/p> 查看詳情

氧化鋁陶瓷拋光液鏡面拋光

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  氧化鋁陶瓷片的表面拋光具有一定難度,原因有兩個(gè),一是氧化鋁材質(zhì)硬度較高,難…

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智能手表不銹鋼后蓋拋光

智能手表不銹鋼后蓋拋光

智能手表后蓋不銹鋼拋光,需要用到CMP工藝的粗拋和精拋。搭配吉致電子拋光液和拋光墊使…

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碳化硅SiC拋光工藝

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  根據(jù)半導(dǎo)體行業(yè)工藝不同,CMP拋光液可分為介質(zhì)層化學(xué)機(jī)械拋光液、阻擋層化學(xué)機(jī)…

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客戶感言/ Testimonials

DPC研磨液----陶瓷覆銅板研磨液拋磨效果

DPC研磨液----陶瓷覆銅板研磨液拋磨效果

我司是做陶瓷覆銅板的,做的是DPC工藝。板材對(duì)粗糙度和平面度有嚴(yán)格要求,搭配吉致電子生產(chǎn)的研磨墊、研磨液拋光液效果很好,可以達(dá)到我司要求,為了回饋貴司免費(fèi)提供我司拋光液樣品,我分享兩張…

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解決拋光難題-----吉致電子陶瓷基板拋光液

解決拋光難題-----吉致電子陶瓷基板拋光液

  陶瓷基板廠家陳總感言:  ——我們是做氧化鋁、氮化鋁、氮化硅陶瓷基板的廠家,這些陶瓷板的硬度都是比較高的,我們對(duì)板子的RA表面粗糙度有要求,試過好多種拋光工藝,最…

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半導(dǎo)體拋光液國(guó)產(chǎn)平替----射頻濾波器拋光液

半導(dǎo)體拋光液國(guó)產(chǎn)平替----射頻濾波器拋光液

  我們是廣東一家半導(dǎo)體廠商,主要是做射頻濾波器件的,制程其中有一道CMP工藝要用到拋光液等耗材。  近幾年隨著國(guó)家半導(dǎo)體事業(yè)的發(fā)展,很多物料遭受國(guó)外卡脖子限制,就算能買回來不僅…

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吉致——我國(guó)化學(xué)機(jī)械拋光耗材優(yōu)良企業(yè)!

吉致電子科技有限公司創(chuàng)始于1997年,現(xiàn)已經(jīng)有19年的研發(fā)經(jīng)驗(yàn),專注于研發(fā)化學(xué)機(jī)械拋光耗材的領(lǐng)域,吉致主要研發(fā)兩大類產(chǎn)品有“拋光墊”“拋光液”。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于金屬,光電,半導(dǎo)體,陶瓷,硬盤面板顯示器等需要精密研磨拋光的行業(yè),廣泛用于平面拋光領(lǐng)域?,F(xiàn)已跟...

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常見問題解答 /FAQ's

如何解決二氧化硅拋光液結(jié)晶問題?吉致電子CMP拋光專家支招
在半導(dǎo)體、光學(xué)玻璃等精密制造領(lǐng)域,二氧化硅(SiO2)拋光液因其高精度、低損傷的特性被廣泛應(yīng)用。然而,拋光液在存儲(chǔ)或使用過程中可能出現(xiàn)結(jié)晶結(jié)...
半導(dǎo)體銅CMP拋光液:銅互連工藝的核心材料
半導(dǎo)體銅化學(xué)機(jī)械拋光液(Copper CMP Slurry)是用于半導(dǎo)體制造過程中銅互連層化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)的關(guān)鍵材料。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的...
硬盤玻璃的表面拋光主要用什么工藝?
    硬盤玻璃(也稱為硬盤盤片基板或玻璃基板)是一種用于制造硬盤驅(qū)動(dòng)器(HDD)盤片的特殊玻璃材料。它是硬盤...
鈮酸鋰/鉭酸鋰晶體拋光液成分及特點(diǎn)
鈮酸鋰(LiNbO?)和鉭酸鋰(LiTaO?)襯底的CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)拋光液是一種專門設(shè)計(jì)用于實(shí)現(xiàn)高效材料去除和表面平整化的化學(xué)機(jī)械混合...
影響碳化硅襯底質(zhì)量的重要工藝參數(shù)有哪些
碳化硅襯底提高加工速率和良品率的主要因素除了用對(duì)拋光液和拋光墊,在CMP拋光研磨過程的工藝參數(shù)也很重要:拋光壓力:適當(dāng)增加壓力可以提高拋光效...
CMP拋光墊在化學(xué)機(jī)械平面研磨中的作用和效果
CMP拋光墊在化學(xué)機(jī)械平面研磨中的作用和效果通過調(diào)整拋光墊的密度和硬度,可以根據(jù)目標(biāo)值(如鏡面光潔度、精度等)進(jìn)行優(yōu)化,確保工件表面達(dá)到鏡面...
半導(dǎo)體晶圓拋光墊的類型有哪些
一、CMP拋光墊概述CMP拋光墊是半導(dǎo)體晶圓制造中不可或缺的工具之一,主要用于半導(dǎo)體晶圓的拋光和平整處理。這些拋光墊CMP Pad采用優(yōu)質(zhì)材...
吉致電子---阻尼布拋光墊的功能和應(yīng)用領(lǐng)域
吉致電子阻尼布拋光墊(精拋墊)的功能和應(yīng)用領(lǐng)域有哪些?一、阻尼布拋光墊的功能優(yōu)勢(shì)①提高拋光質(zhì)量:阻尼布拋光墊能夠有效吸收拋光過程中的振動(dòng)和沖...