吉致電子氧化鋁精拋液（CMP Slurry）/納米氧化鋁懸浮液采用高純度分級氧化鋁微粉為原料，經特殊表面改性工藝處理，通過科學配方精密配制而成。具有以下顯著優(yōu)勢：

適用于化學機械平面研磨工藝CMP場景---鋁合金、不銹鋼、鎢鋼、鑄鐵件等金屬材質;以及藍寶石、碳化硅襯底、光學玻璃、精密陶瓷基板等半導體襯底材料的精密拋光加工。

氧化鋁精拋液性能優(yōu)勢突出：

• 獨特的抗結晶配方，確保拋光過程穩(wěn)定

• 對拋光設備無腐蝕，維護簡便

• 殘留物易清洗，提高生產效率

  
  

氧化鋁精拋液效果卓越：

• 創(chuàng)新的化學機械協(xié)同作用機制，顯著提升拋光效率

• 優(yōu)化的表面處理工藝，確保拋光面質量達到鏡面級標準

氧化鋁磨料特性優(yōu)異：

• 類球形氧化鋁磨料粒徑分布均勻

• 特殊表面處理工藝防止顆粒團聚

• 有效降低表面劃傷風險，提高產品良率

• 在拋光效率、表面質量和工藝穩(wěn)定性等方面氧化鋁拋光液具有明顯優(yōu)勢，是精密拋光領域的理想選擇。

吉致電子氧化鋁拋光液參數及磨料粒徑：1μm、3μm、9μm、15μm 納米氧化鋁拋光液：200nm、400nm、600nm、800nm專為金屬及半導體材料設計的高效CMP拋光解決方案

無錫吉致電子科技有限公司

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