拋光液的主要成分可分為以下幾類:氧化鋁拋光液、氧化鈰拋光液、金剛石研磨液(聚晶鉆石拋光液、單晶金剛石拋光液、納米金剛石拋光液)、氧化硅拋光液、碳化硅拋光液。

  硅溶膠拋光液(氧化硅拋光液)是以高純硅粉為原料，通過特殊工藝（如水解法）生產(chǎn)的高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛應(yīng)用于多種納米級材料的高平坦化拋光，如硅晶片、鍺晶片、砷化鎵、磷化銦等化合物半導(dǎo)體材料、精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石襯底、藍(lán)寶石窗口等。

  金剛石拋光液以金剛石微粉為主要成分，高分散配方，硬度高韌性好，有良好的高切削率，不易劃傷工件表面。通常用于研磨藍(lán)寶石襯底、減薄LED芯片背面、研磨拋光光學(xué)晶體和硬盤磁頭等。 

  碳化硅拋光液是以超細(xì)氧化鋁和碳化硅粉為磨料的拋光液，主要成分為微米或亞微米磨料。主要用于研磨拋光高精度光學(xué)儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器等。

  CeO2拋光液（氧化鈰拋光液）是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰拋光液，具有分散性好、粒度細(xì)、切削能力強(qiáng)、拋光精度高、拋光良品率高、使用壽命長的優(yōu)點。適用于高精密光學(xué)儀器、光學(xué)透鏡、微晶玻璃基板、晶體表面、集成電路光掩模等工件的精密拋光。

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