您好,歡迎來(lái)到吉致電子科技有限公司官網(wǎng)!
收藏本站|在線(xiàn)留言|網(wǎng)站地圖

吉致電子拋光材料 源頭廠(chǎng)家
25年 專(zhuān)注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

訂購熱線(xiàn):17706168670
熱門(mén)搜索: 硅晶圓slurry拋光液氧化硅拋光液集成電路拋光液CMP化學(xué)機械拋光液slurry化學(xué)機械拋光液
福吉電子采用精密技術(shù),提供超高質(zhì)量產(chǎn)品
當前位置:首頁(yè) » 全站搜索 » 搜索:氧化硅拋光液
[行業(yè)資訊]藍寶石襯底研磨用什么拋光液[ 2023-08-25 13:36 ]
  CMP工藝怎么研磨藍寶石襯底?需要搭配什么拋光液?藍寶石拋光萬(wàn)能公式:粗拋、中拋、精拋,每道工序使用不同磨料的拋光液和拋光PAD:①藍寶石CMP粗磨:藍寶石襯底粗磨可以選擇硬度高切削力強的吉致金剛石研磨液,搭配金剛石磨盤(pán),速率高效果好可有效去除藍寶石表面的不平和劃痕。②藍寶石CMP中拋:這一步可以用銅盤(pán)+小粒徑的金剛石研磨液,用來(lái)去除粗拋留下的紋路,為鏡面拋光做前期準備。③藍寶石CMP精拋:CMP精拋是藍寶石襯底最后一道工序,需要用到拋光墊+納米氧化硅拋光液來(lái)收光,呈現平坦無(wú)暇的鏡面效果。 
http://www.jeffvon.com/Article/lbscdymysm_1.html3星
[應用案例]智能手表不銹鋼后蓋拋光[ 2023-08-18 10:43 ]
智能手表后蓋不銹鋼拋光,需要用到CMP工藝的粗拋和精拋。搭配吉致電子拋光液和拋光墊使用可以獲得完美無(wú)痕的鏡面效果。工件原件為不銹鋼材質(zhì),拋光前有明顯的紋路,原始件拋磨面是帶弧度的形態(tài),與常見(jiàn)的平面拋光不同,曲面弧面拋光要設計不同規格溝槽及復合不同緩沖材質(zhì)的拋光墊,通過(guò)不同成分的拋光液對弧面表面進(jìn)行處理,以去除氧化層、污物和劃痕。不銹鋼粗拋液一般使用氧化鋁拋光液,快速去除表面雜質(zhì)和沖壓紋。不銹鋼精拋會(huì )使用到吉致電子氧化硅拋光液鏡面細拋,使不銹鋼曲面沒(méi)有水波紋、劃痕和和擦傷,可以清晰的倒影出環(huán)境的影像。314/316/
http://www.jeffvon.com/Article/znsbbxghgp_1.html3星
[常見(jiàn)問(wèn)題]二氧化硅拋光液與硅溶膠拋光液有啥不同[ 2023-08-11 16:04 ]
  二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝制備成的一種低金屬離子高純度CMP拋光產(chǎn)品。 硅溶膠拋光液是以液體形式存在,直徑為10-150nm的二氧化硅粒子(分散相)在水或有機液體(分散介質(zhì))里的分散體系,粒子的形貌多為球形,適用于各類(lèi)工件的鏡面拋光,如金屬、藍寶石襯底、半導體、光學(xué)玻璃、精密電子元器件等的鏡面拋光。 本質(zhì)上講二氧化硅拋光液、硅溶膠拋光液都是一種東西,主要成分都是SiO2只是叫法不同。在CMP研磨拋光工藝中,機器通過(guò)壓力泵把氧化硅拋光液輸送到拋光槽內進(jìn)行循環(huán)使用,
http://www.jeffvon.com/Article/eyhgpgyygr_1.html3星
[常見(jiàn)問(wèn)題]如何解決氧化硅拋光液結晶問(wèn)題[ 2023-05-09 17:17 ]
 二氧化硅拋光液在拋光過(guò)程中會(huì )出現結晶結塊的現象,雖然不是大問(wèn)題但如果處理不當,很可能會(huì )導致工件表面劃傷甚至報廢,那么怎么解決氧化硅拋光液結晶問(wèn)題呢?  首先要了解硅溶膠拋光液的特點(diǎn)屬性。二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料,經(jīng)水解法離子、交換法制備成的一種高純度低金屬離子型產(chǎn)品。在水性環(huán)境中容易形成一種離子網(wǎng)狀結構,而一脫離了水份,表面積迅速凝結形成結晶塊,所以只要保持水分基本上是不會(huì )出現結晶現象。在實(shí)際CMP拋光工藝當中硅溶膠拋光液會(huì )一直在研磨盤(pán)轉動(dòng)、流動(dòng),結晶情況較少。  因此氧化
http://www.jeffvon.com/Article/rhjjyhgpgy_1.html3星
[吉致動(dòng)態(tài)]CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優(yōu)點(diǎn)[ 2023-03-03 09:15 ]
  通?;瘜W(xué)機械研磨拋光工藝使用的CMP拋光液有金剛石拋光液、氧化硅拋光液、氧化鋁拋光液及氧化鈰拋光液(又稱(chēng)稀土拋光液)。  納米氧化鈰為水性液體是吉致電子采用先進(jìn)的分散工藝,將納米氧化鈰粉體分散在水相介質(zhì)中,形成高度分散化、均勻化和穩定化的納米氧化鈰水性懸浮液。1.在拋光材料應用中,納米CeO2拋光液相對硅溶膠,具有拋光劃傷少、拋光速度快、易清洗良品率高等優(yōu)勢,且PH中性,使用壽命長(cháng)、對拋光表面污染小,不易風(fēng)干。2.在拋光軍用紅外激光硅片、異型硅、超薄硅片方面上,尤其是拋光超薄硅片,納米氧化鈰
http://www.jeffvon.com/Article/cmppgynmyh_1.html3星
[常見(jiàn)問(wèn)題]藍寶石拋光液是不是二氧化硅拋光液[ 2023-02-06 16:10 ]
藍寶石拋光液是不是二氧化硅拋光液?藍寶石拋光液是以高純度硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝制備成的一種低金屬離子CMP拋光液,是一種高純度的氧化硅拋光液,廣泛應用于多種材料的納米級高平坦化拋光。吉致電子生產(chǎn)的藍寶石拋光液主要用于藍寶石襯底研磨減薄,藍寶石A向拋光液,藍寶石C向拋光液等。拋光范圍如:硅片、鍺片、化合物晶體磷化銦、砷化鎵、精密光學(xué)器件、寶石飾品、金屬鏡面等研磨拋光加工。藍寶石拋光液Sapphire Slurry的特點(diǎn):1.高純度(Cu含量小于50 ppb),有效減小對電子類(lèi)產(chǎn)品的污染。2.高拋光速率,利用大粒徑的膠
http://www.jeffvon.com/Article/lbspgysbse_1.html3星
[常見(jiàn)問(wèn)題]SiO2二氧化硅拋光液--硅溶膠粒徑大小的區別[ 2023-01-06 16:24 ]
  二氧化硅拋光液SiO2 Slurry的制備中主要成分是納米硅溶膠,一般分為大粒徑硅溶膠和小粒徑硅溶膠,那么怎么定義硅溶膠粒徑大小呢,吉致電子小編為您詳解: 大粒徑硅溶膠與小粒徑硅溶膠的定義 CMP精拋液中納米硅溶膠顆粒的粒徑為10-50nm,這個(gè)粒徑范圍的硅溶膠在市場(chǎng)上最常見(jiàn),價(jià)格也相對便宜。如果對硅溶膠的純度和pH值沒(méi)有特殊要求,這種規格的硅溶膠價(jià)格相對比較便宜。 大粒徑硅溶膠:粒徑>50nm的硅溶膠一般可稱(chēng)為大粒徑硅溶膠。吉致電子科技生產(chǎn)的大粒徑硅溶膠最大可達150n
http://www.jeffvon.com/Article/sio2eyhgpg_1.html3星
[吉致動(dòng)態(tài)]硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密[ 2023-01-06 13:52 ]
  吉致電子硅溶膠研磨液/拋光液采用的是納米級工藝,主要粒徑在10-150nm。適用于各種材質(zhì)工件的CMP表面鏡面處理。以硅溶膠漿料為鏡面的平面研磨的材料有半導體晶圓、光學(xué)玻璃、3C電子金屬元件、藍寶石襯底、LED顯示屏等高精密元件。  硅溶膠拋光液也稱(chēng)二氧化硅拋光液、氧化硅精拋液,SiO2是硅溶膠的化學(xué)名,適用范圍已擴展到半導體產(chǎn)品的CMP拋光工藝中。  CMP拋光機可以將氧化硅研磨液循環(huán)引入磨盤(pán),同時(shí)起到潤滑和冷卻的作用,通過(guò)拋光液和拋光墊組合拋磨可以使工件表面粗糙度達到0.2um
http://www.jeffvon.com/Article/grjymyjmgj_1.html3星
[常見(jiàn)問(wèn)題]3C鏡面拋光液用什么拋光液[ 2022-12-09 16:18 ]
  3C產(chǎn)品表面鏡面拋光一般不采用電解拋光方式,而是選擇CMP機械拋光工藝。SiO2拋光液用于3C工件的鏡面拋光工藝,主要由納米級磨料制備而成,規格一般在10nm-150nm拋光后的產(chǎn)品鏡面精度高,表面收光細膩。  氧化硅精拋液進(jìn)行精拋工藝后,工件可以從霧面提升到鏡面透亮的效果。拋光液配合精拋皮使用,鏡面效果檢測可達納米級。3C金屬拋光液用于鏡面要求較高的工件拋光,因此必須做好前道工序。先粗拋打好基礎,再精拋去除缺陷和不良效果。  有客戶(hù)使用二氧化硅拋光液后工件表面會(huì )產(chǎn)生麻點(diǎn),這是由于
http://www.jeffvon.com/Article/3cjmpgyysm_1.html3星
[行業(yè)資訊]半導體拋光液--球型二氧化硅拋光液的用途[ 2022-11-23 15:21 ]
  球形硅微粉作為拋光液磨料,可大大提高產(chǎn)品的剛性、耐磨性、耐候性、抗沖擊性、耐壓性、抗拉性、阻燃性、良好的耐電弧絕緣性和耐紫外線(xiàn)輻射性。讓我們來(lái)看看球型二氧化硅拋光液在電子芯片中的一些應用。  精密研磨粉高純球形硅粉用于光學(xué)器件和光電行業(yè)的精密研磨,特別適用于半導體單晶多晶硅片、顯像管玻殼玻屏、光學(xué)玻璃、液晶顯示器(LCD、LED)玻璃基板、壓電晶體、化合物半導體材料(砷化鎵、磷化銦)、磁性材料等半導體行業(yè)的研磨拋光。  吉致電子用高純球形硅粉制備成的超高純硅溶膠拋光液slurry,
http://www.jeffvon.com/Article/bdtpgyqxey_1.html3星
[行業(yè)資訊]納米氧化硅拋光液的特點(diǎn)[ 2022-11-18 16:10 ]
  納米二氧化硅拋光液由高純納米氧化硅SiO2等多種復合材料配置而成,通過(guò)電解法或離子交換法制備成納米拋光液,硅拋光液磨料分散性好,具有高強度、高附著(zhù)力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點(diǎn),是一種性能優(yōu)良的CMP拋光材料。廣泛應用于金屬或半導體電子封裝拋光工藝中。吉致電子硅拋光液,CMP拋光slurry應用范圍:1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過(guò)程,適用于大規模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。3、用于晶圓的后道CMP清洗等半導體器件的加工過(guò)程、平面顯示器、多
http://www.jeffvon.com/Article/nmyhgpgydt_1.html3星
[行業(yè)資訊]金屬手機邊框的鏡面拋光方法是什么?[ 2022-10-31 16:01 ]
  手機金屬外殼/手機邊框材質(zhì)一般為不銹鋼、鈦合金、鋁合金等,如華為\Iphone手機金屬邊框要達到完美的鏡面效果需要精拋步驟----手機鏡面拋光液slurry的主要成份是二氧化硅,二氧化硅拋光液外觀(guān)為乳白色,呈懸浮液狀態(tài),在拋光過(guò)程中起到收光磨料的作用。  金屬手機精拋液的主要技術(shù)要求是什么呢?①鏡面拋光液PH值的選擇:PH值高低很可能會(huì )影響到最終的拋光效果,高低差別會(huì )導致手機金屬工件發(fā)黑氧化,以及麻點(diǎn)和起霧,所以如何控制PH值非常重要。②鏡面拋光液磨粒大小的選擇:氧化硅磨料顆粒大小,直接影響
http://www.jeffvon.com/Article/jssjbkdjmp_1.html3星
[常見(jiàn)問(wèn)題]什么是單一磨料的CMP拋光液?[ 2022-08-31 16:11 ]
單一磨料拋光液化學(xué)機械CMP拋光液在研究初期大多是使用單一磨料,如氧化鋁拋光液(Al2O3)、二氧化硅拋光液(SiO2)、二氧化鈰拋光液(CeO2)、氧化鋯拋光液(ZrO2)和金剛石拋光液等。其中研究應用最多的是Al2O3、SiO2和CeO2磨料拋光液。氧化鋁拋光液--Al2O3的硬度高,多用于藍寶石、碳化硅、光學(xué)玻璃、晶體和合金材料的拋光,但含Al2O3的拋光液會(huì )出現選擇性低、分散穩定性不好、易團聚的問(wèn)題,容易在拋光表面造成劃傷,一般需要配合各種添加劑使用才能獲得良好的拋光表面。氧化硅拋光液--SiO2具有良好的
http://www.jeffvon.com/Article/smsdymldcm_1.html3星
[常見(jiàn)問(wèn)題]CMP拋光液中磨料對拋光效果的影響[ 2022-08-30 15:49 ]
磨料對拋光效果的影響在CMP拋光過(guò)程中磨料的作用是借助機械力,通過(guò)化學(xué)反應去除工件或晶圓表面形成的鈍化膜,從而達到表面平坦化的目的。CMP拋光液常用的磨料有硅溶膠SiO2、氧化鋁Al2O3、氧化鈰CeO2、金剛石等。磨料的種類(lèi)磨料的種類(lèi)和材質(zhì)決定了拋光液中微粒的硬度和粒徑,從而影響拋光效果。拋光鋁合金工件實(shí)驗中相對于氧化鋁拋光液Al2O3磨料,氧化硅拋光液SiO2磨料能獲得較好的表面平整度、更少的表面劃痕和更小的尺寸。原因是硅溶膠拋光液SiO2磨粒尺寸較小,拋光時(shí)磨料嵌入晶圓表面的深度較小。 此外,通過(guò)優(yōu)
http://www.jeffvon.com/Article/cmppgyzmld_1.html3星
[常見(jiàn)問(wèn)題]吉致電子硅溶膠拋光液的適用范圍[ 2022-08-19 15:44 ]
硅溶膠拋光液又稱(chēng)氧化硅拋光液,通過(guò)離子交換法和水解法制備不同粒徑的穩定硅溶膠,經(jīng)過(guò)鈍化添加化學(xué)助劑和特殊工藝配制成的二氧化硅拋光漿料,廣泛應用于集成電路半導體、特殊材料、金屬工件、脆硬鏡面的拋光。吉致電子25年CMP拋光液生產(chǎn)廠(chǎng)家,可根據客戶(hù)不同工藝要求定制調整拋光漿料。氧化硅拋光液主要適用范圍:1.可用于玻璃陶瓷的表面拋光。2.用于硅片和IC加工的粗拋和精拋,適用于大規模集成電路多層膜的平坦化。3.用于半導體元件的加工,如晶圓后道CMP清洗、光導攝像管、多晶化模塊、平板顯示器、微電機系統等。4.廣泛應用于CMP化
http://www.jeffvon.com/Article/jzdzgrjpgy_1.html3星
[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子納米氧化硅拋光液的特點(diǎn)[ 2022-08-19 15:29 ]
吉致電子納米氧化硅拋光液的特點(diǎn):1,可提高工件拋光速率和平坦度加工質(zhì)量,氧化硅拋光液采用高純納米二氧化硅(SiO2)磨料及多種復合材料配置而成,不會(huì )對工件造成物理?yè)p傷,拋光率高。2,利用均勻分散的膠體二氧化硅粒子顆粒達到高速拋光的目的。3,硅溶膠純度高,拋光液不腐蝕設備,無(wú)毒無(wú)害使用安全性能高。4,可實(shí)現高平坦化加工。5,有效減少拋光后的表面劃痕,降低表面粗糙度。吉致電子通過(guò)科學(xué)工藝分散均勻的氧化硅顆粒,得到均勻分散的納米拋光液,具有高強度、高附著(zhù)力、成膜性好、高滲透、高耐磨性等特點(diǎn),是一種性能優(yōu)良的CMP技術(shù)用的
http://www.jeffvon.com/Article/jzdznmyhgp_1.html3星
[吉致動(dòng)態(tài)]鏡面拋光液---氧化硅拋光液在拋光中的作用[ 2022-08-12 14:17 ]
鏡面拋光液的主要材料是納米二氧化硅磨料,制備成的液體漿料也稱(chēng)為硅溶膠拋光液。二氧化硅拋光液主要適用于拋光藍寶石襯底、硅片、半導體、精密電子工件、晶體等產(chǎn)品。二氧化硅拋光漿料主要利用硅膠離子的高速拋光來(lái)達到表面處理的效果。二氧化硅是用納米技術(shù)制成的。根據工件拋磨要求,可制備出不同切削力的產(chǎn)品達到鏡面拋光。粒度控制可以有效減少電子工件上的污垢,使用納米級硅膠顆粒加工工件,不會(huì )損傷工件,同時(shí)還能達到理想效果氧化硅拋光液需要配合精拋墊使用,精拋墊的主要成分是聚氨酯,聚氨酯的眾多孔隙可以將拋光液均勻地粘在其表面,與工件一起研
http://www.jeffvon.com/Article/jmpgyyhgpg_1.html3星
[吉致動(dòng)態(tài)]氧化硅拋光液的結晶問(wèn)題[ 2022-08-12 13:25 ]
  氧化硅拋光液長(cháng)時(shí)間暴露在空氣中,會(huì )使水分蒸發(fā)剩下固體氧化硅,造成硅晶體析出現象,稱(chēng)之為結晶。在實(shí)際應用時(shí),硅溶膠拋光液會(huì )一直在磨盤(pán)內旋轉循環(huán)及流動(dòng),結晶現象較少,但是高溫或拋光液濃度沒(méi)有配置好,會(huì )造成團聚,損傷工件,影響拋光效果。根據二氧化硅的特性,吉致電子拋光液廠(chǎng)家開(kāi)發(fā)了抗結晶納米二氧化硅拋光液,可以長(cháng)時(shí)間保持氧化硅穩定液體狀態(tài)。拋磨工件時(shí)易搖散且不團聚,化學(xué)性能穩定分散均勻,氧化硅精拋液拋光效率高,能有效縮短工時(shí),磨拋后工件呈現鏡面效果,無(wú)劃傷、高平坦。  外需要注意的是,氧化硅拋光液
http://www.jeffvon.com/Article/yhgpgydjjw_1.html3星
[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子---氧化硅拋光液的特點(diǎn)和作用[ 2022-08-04 14:54 ]
氧化硅拋光液的主要成分是高純二氧化硅粉為,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光液。氧化硅溶液其實(shí)就是市面上的硅溶膠,當然是二次加工后的硅溶膠。因為硅溶膠是膠狀的,不能直接研磨拋光。這項技術(shù)的主要應用是CMP半導體拋光。該技術(shù)在相對早期階段就已存在,但市場(chǎng)應用范圍較窄。       氧化硅外觀(guān)為乳白色懸浮液,呈堿性、中性、酸性。一般時(shí)間長(cháng)了不會(huì )有沉淀,但是暴露在空氣中很快就會(huì )結晶,有一定的腐蝕性。不銹鋼工件在二氧化硅環(huán)境中容易生銹,拋光工件時(shí)應及時(shí)清洗掉二氧化硅溶液。&n
http://www.jeffvon.com/Article/jzdzyhgpgy_1.html3星
[行業(yè)資訊]吉致電子--拋光液的主要成分和功能有哪些?[ 2022-07-22 16:52 ]
  拋光液的主要成分可分為以下幾類(lèi):氧化鋁拋光液、氧化鈰拋光液、金剛石研磨液(聚晶鉆石拋光液、單晶金剛石拋光液、納米金剛石拋光液)、氧化硅拋光液、碳化硅拋光液。  硅溶膠拋光液(氧化硅拋光液)是以高純硅粉為原料,通過(guò)特殊工藝(如水解法)生產(chǎn)的高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛應用于多種納米級材料的高平坦化拋光,如硅晶片、鍺晶片、砷化鎵、磷化銦等化合物半導體材料、精密光學(xué)器件、藍寶石襯底、藍寶石窗口等。  金剛石拋光液以金剛石微粉為主要成分,高分散配方,硬度高韌性好,有良好的高切削率,不易
http://www.jeffvon.com/Article/jzdzpgydzy_1.html3星
記錄總數:0 | 頁(yè)數:0