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吉致電子拋光材料 源頭廠(chǎng)家
25年 專(zhuān)注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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碳化硅晶圓拋光液 硅襯底拋光液 slurry拋光液

產(chǎn)品分類(lèi): 拋光液
    產(chǎn)品名稱(chēng):碳化硅晶圓拋光液 硅襯底拋光液 slurry拋光液
    磨料類(lèi)型:專(zhuān)利化學(xué)配方/可定制
    磨料粒徑:專(zhuān)利化學(xué)配方/可定制
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      碳化硅晶圓拋光液·參數吉致電子,CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專(zhuān)利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

      產(chǎn)品名稱(chēng):碳化硅晶圓拋光液/硅襯底SIC拋光液/半導體拋光液/CMP化學(xué)機械拋光液

      產(chǎn)品簡(jiǎn)介:電力電子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化學(xué)機械平坦化配制的拋光液。CMP拋光液大大提高了碳化硅晶圓表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的表面光潔度

       吉致電子 CMP拋光工作示意圖

      吉致電子碳化硅拋光液特點(diǎn):

      ·用于可擴展制造低缺陷功率和半絕緣 SiC(碳化硅)襯底的高性能Slurry拋光漿料。

      ·專(zhuān)為滿(mǎn)足Sic晶圓基片C面、單晶硅、多晶硅從研磨到 CMP工藝各階段的規格而設計

      ·定制硅晶圓工件 CMP 系統的優(yōu)化解決方案,以提供較低的成本

      ·高拋光速率的拋光液配方,快速高效同時(shí)保持均勻性、零亞表面損傷和低缺陷/劃痕

      ·Slurry拋光液可大批量制造 (HVM) 并與散裝輸送系統兼容

      ·可根據要求設計定制解決方案。


      拋光過(guò)程中具有:

      1.高拋光速率 --------精密的磨料和化學(xué)配方專(zhuān)門(mén)設計,用于SiC外延片碳化硅襯底上提供高去除率和低表面粗糙度

      2.高平坦度加工-----吉致碳化硅晶圓精拋液不會(huì )對加工件造成物理?yè)p傷,達到高平坦化加工

      吉致電子碳化硅晶圓Slurry拋光液使用方法:

      1.可根據拋光操作條件用去離子水進(jìn)行5-20倍稀釋。

      2.稀釋后,粗拋時(shí)調節PH11左右,精拋時(shí)調節PH9.5左右。pH調節可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分攪拌下慢慢加入。

      3.循環(huán)拋光可以用原液。

      吉致電子碳化硅晶圓Slurry拋光液儲存方法:

      1.貯存時(shí)應避免曝曬,貯存溫度為5-35℃

      2.低于0℃以上儲存,防止結冰,在無(wú)度以下因產(chǎn)生不可再分散結塊而失效。

      3.避免敞口長(cháng)期與空氣接觸。

      吉致電子碳化硅晶圓Slurry拋光液價(jià)格:

      吉致電子的碳化硅晶圓拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國外生產(chǎn)技術(shù)和設備,特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類(lèi)產(chǎn)品。

      本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

      吉致電子研發(fā)團隊--15年經(jīng)驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!

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